파크시스템스는 반도체 최첨단 공정인 EUV 공정의 포토 마스크에 발생하는 나노미터 크기의 결함 및 파티클을 가장 안전하고 효과적으로 제거할 수 있는 신제품 Park NX-Mask를 11월 1일 정식 출시했다고 밝혔다.

Fully Compatible with EUV Dual Pods

포토 마스크는 유리 기판 위에 반도체 회로 패턴을 형성한 것으로, 사진 원판인 필름 역할을 담당하는 반도체 리소그래피 공정의 핵심 파트이다. 포토마스크에 빛을 투과하거나 반사시켜 웨이퍼에 조사하는 방식으로, 설계한 반도체 회로를 웨이퍼나 기판에 전사하게 된다.

Park NX-Mask는 EUV 마스크를 위한 듀얼 포드를 지원하며, 마스크 패턴에 발생한 결함 및 파티클의 형상 측정 및 제거, 제거 후 검증까지 모든 과정을 하나의 솔루션으로 완벽하게 제공한다. 이로써 반도체 제조사들은 고비용의 EUV 공정에서 생산원가를 낮추고, 디바이스 수율을 높일 수 있다.

전자빔이나 레이저를 사용하는 다른 마스크 리페어 기술은 전자빔 또는 레이저빔의 크기를 줄이는 데 한계가 있어, EUV기술이 사용되는 최첨단 반도체 미세 패턴에는 사용이 점점 어려워지고 있다. 그러나 Park NX-Mask는 원자현미경 기반의 나노머시닝(Nano-machining) 기술을 통해 마스크 패턴과 결함의 정확한 위치정보 및 형상정보를 정밀하게 파악하고, 팁의 정밀 위치제어를 통해 포토마스크 패턴이나 표면에 영향을 주지 않고 결함을 선택적으로 제거할 수 있다.

파크시스템스의 제품마케팅 총괄임원인 이동춘 전무는 “Park NX-Mask는 원자현미경 기반의 나노머시닝 기술을 이용한 인라인용 포토마스크 리페어 장비로써, EUV 기술을 포함한 차세대 반도체 포토공정의 개발 및 제조 생산성 증대에 크게 기여할 것이며, 당사는 앞으로도 글로벌 고객사들의 나노계측 및 나노머시닝 분야의 요구에 대해 최적의 솔루션을 제공할 것”이라고 전했다.

AFM Based EUV Mask Repair Equipment, NX-Mask

Park NX-Mask는 공식 출시 이전부터 이미 글로벌 고객사들로부터 8 대의 수주를 받으며 시장의 뜨거운 호응을 얻고 있기 때문에 앞으로 더 많은 수요를 창출할 것으로 기대된다.

한편, 산업통상자원부는 ‘EUV Mask 결함 검출 및 분석기술’을 장기적으로 개발이 필요한 최첨단 기술로 평가하고 2025년까지 수행하는 대규모 산학연 국책과제 총괄기업으로 파크시스템스를 선정하였다. 과제총괄을 맡은 조상준 전무는 본 과제를 통해 해당기술의 고도화와 시장확대를 위한 기술개발에 매진할 계획이며, 이를 통해 회사의 성장과 더불어 국가 반도체산업 기술발전에 기여하겠다고 밝혔다.

원자현미경은 시료의 형상과 물성을 나노미터 수준에서 측정하고 분석할 수 있는 장비로 나노기술시대를 열어가는 중요한 도구이다. 파크시스템스는 세계 최고의 원자현미경 원천기술을 보유한 전문기업으로써 연구용 뿐만 아니라 반도체 및 디스플레이 공정에 최적화된 산업용 원자현미경을 개발, 제조, 판매하고 있으며 전세계 유수의 반도체 및 디스플레이 기업들에게 제품을 공급하고 있다. 최근에는 독일의 기술 강소기업을 인수하며 지속적인 사업성장을 도모하고 있다.