산업용 원자현미경

Mask Repair

마스크 수리는 정확한 임프린팅을 방해하는 리소그래피의 결함을 수정하기 위해 반도체 산업에서 매우 중요합니다. E-빔이나 레이저와 같은 기존 수리 방법은 빔 크기 제한으로 인해 마스크의 미세 패턴이 손상될 위험이 있습니다. 더욱이 이러한 시스템에는 자동화가 부족하여 인라인 프로세스로의 통합이 복잡해집니다. 파크시스템스의 마스크 수리 기술은 자동화된 결함 검토, 손상 없는 수리, 수리 검증을 위한 포괄적인 솔루션을 제공하여 수리 효율성과 처리량을 향상 시킵니다.