Park NX-Hybrid WLIは、白色光干渉計測プロフィロメトリを統合した初のAFMであり、前工程から先端パッケージングおよび研究開発計測まで、さまざまな半導体製造ニーズに対応します。高スループット、大面積測定に理想的で、サブナノ分解能と優れた精度でナノメートルスケールの領域にズームインする機能を備えています。
半導体業界では、デバイスのパッケージングが現代のデバイスの性能、サイズ、信頼性を決定する上で重要な役割を果たします。メーカーは、より小型で高性能な半導体の需要に応えるために、複雑な部品の統合、効率的な熱管理、材料の互換性、および高周波数での電気的整合性の維持などの課題に直面しています。Park Atomic Force Microscopy ソリューションは、これらの課題に正面から取り組みます。Park AFMツールは、その高度な精度とナノスケール構造を分析する能力により、メーカーが先端デバイスパッケージングの複雑さを克服するのを支援します。
Park NX-Hybrid WLIは、白色光干渉計測プロフィロメトリを統合した初のAFMであり、前工程から先端パッケージングおよび研究開発計測まで、さまざまな半導体製造ニーズに対応します。高スループット、大面積測定に理想的で、サブナノ分解能と優れた精度でナノメートルスケールの領域にズームインする機能を備えています。
Park NX-Hybrid WLIは、半導体および関連製造の品質保証、半導体前工程から後工程、先端パッケージングまでのプロセス制御および研究開発計測のための内蔵WLIプロフィロメトリを備えた初のAFMです。これは、大面積で高スループットの測定が必要で、サブナノ分解能と超高精度でナノメートルスケールの領域にズームインできるユーザー向けのものです。
LEDやハロゲンランプなどの白色光が光源として使用され、さまざまなレンズを通じてサンプルに照射されます。このビームでサンプルをスキャンすると、スキャン中の光の干渉により光強度の変動が発生します。この原理を使用して、WLIは各点の表面の高さを計算し、表面の地形図を生成します。
白色光干渉計（WLI）と原子間力顕微鏡（AFM）は、半導体計測のための2つの最高の補完技術であり、WLIは高スループット測定のための高速広域光学イメージングを提供し、AFMは透明材料に対しても最高のナノスケール分解能を提供します。
Park NX-Hybrid WLIはWLIとPSIモードの両方をサポートし、PSIモード用のモーター駆動フィルターチェンジャーと、2つの対物レンズを迅速に交換する自動化モーター駆動リニアレンズチェンジャーを備えています。利用可能な倍率には2.5倍、10倍、20倍、50倍、および100倍が含まれており、多様な測定ニーズに対応するためにレンズを自動で交換できます。
Park NX-Hybrid WLIは、基準サンプル領域とターゲットサンプル領域間の画像を比較することでホットスポット欠陥を自動的にレビューし、高速「ホットスポット検出」を実現します。これにより、欠陥箇所を迅速に特定し、詳細で高分解能のAFMレビューを実行できます。
