インライン計測用AFM

フォトマスクリペア

フォトマスクリペアは、リソグラフィプロセス中に発生する異物である欠陥に対処するための、半導体産業における極めて重要な技術として注目されています。これらの欠陥は、精密なインプリントプロセスを妨げるため、フォトマスクの再利用にはリペアが必要不可欠です。しかし、現在主流のE-BeamやLaserを用いたマスク修正システムは、サンプルの表面やパターンに損傷を与える可能性があるという重大な課題に直面しています。この問題は、ビームサイズの縮小に限界があるため、極小パターンが適用されるマスクで特に顕著です。さらに、これらのシステムは自動化が進んでおらず、インラインプロセスへのシームレスな統合が困難です。パーク・システムズの高度なAFM技術は、この課題に応えるソリューションを提供します。弊社は、自動欠陥レビューから欠陥の修復、損傷のない修復の検証までを一体化したオールインワンソリューションを提供し、修復効率とスループットを劇的に向上させます。