フォトマスクの欠陥は、環境中の異物や誤ったパターン処理によって生じます。高端フォトマスクで最も一般的に見られる欠陥は、リソグラフィプロセス中に生成されたスズ粒子です。Park NX-MaskのAFMナノメカニカル法は、フォトマスク修理において完全に安全で優れた多くの利点を提供します。

Park NX-Mask presents optimized solutions tailored for inline production, featuring an automated dual pod design specifically engineered for handling masks. Utilizing AFM technology, it ensures seamless repair of any defect type, offering an all-in-one solution encompassing automatic defect review, defect repair, and verification of the repair process. Moreover, its automated dual pod design streamlines the handling of masks in an inline production environment, enhancing efficiency and precision throughout the process.

Park NX-Maskは、独自の非接触AFM技術を使用して欠陥を特定するために調査スキャンを最初に行います。この方法は最も安全なスキャン方法を提供します。調査スキャンを通じて、Park NX-Maskは欠陥の数量と正確な位置、および各粒子と欠陥に関する情報を学習します。修理後、Park NX-Maskは非接触AFM技術を使用して修理後の検証を実行し、表面粗さなどの重要な計測データに加えて、ナノスケールの3D地形を生成します。